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2016年台北国际光电周

日期: 2016-06-14  

 我司观展此次台北国际光电周

 

基本信息:
展出时间:2016/6/15至2016/6/17
展出地点:台北南港展览馆
主办单位:台湾光电科技工业协进会(PIDA)

展览介绍:

国际光电大展首办于1984年,是台湾光机电产业的年度盛会及行销舞台、本展以光电科技为核心。整合半导体、电子、光通讯、镭射、光学、精密机械等关联领域;完整展出光电应用产业之材料、元/组件、应用产品、生产设备、厂务设施及软硬体技术。

    国际光电大展一直为台湾光电产业搭建进军市场的展现舞台。持续受到厂商的支持和参与,并随着台湾光电技术的突飞猛进,使得国际光电大展在国际上熠熠生辉,让台湾的光电产品备受全球瞩目。现已成为全球重要的光电展览之一,更是业界一年一度不可错过的展览,欢迎各界踊跃参与此产业盛会,一同创造台湾光电新价值。



展出项目:

半导体材料及设备:半导体材料:单晶棒、基板、晶圆、晶粒

半导体制程设备:晶圆(长晶/扩散/曝光/蚀刻)、组装(切割/黏着/封装)、测试(环境/探针/老化)、厂务(自动化/无尘室)

光电元/组件:发光/微波/检光/感测/影像等元组件、光机电整合、微机电系统、奈米技术

精密储器:光学、电子、真空、分析、量测、检测、等仪器及设备

雷射应用:工业雷射(切割/焊接/标记)/微加工雷射(钻孔/划线/剥除/改质)、实验室雷射、医用雷射、雷射全像、雷射周边设备暨材料

光传输:光纤/光缆、光通讯系统/设备、光量测试设备

光咨讯(输出入/储存设备):光学引擎、晶片组、感光鼓、光学读取头、染料

生医光电:医用感测、影像、照明、雷射操控、远距医疗、生态应用

3D列印:3D列印系统设备、3D量测软体、3D扫描、RE逆向工程

真空镀膜:靶材、真空/洗净/薄膜设备(蒸镀/溅镀/CAD)